7月3日，半導體設備板塊在開盤經(jīng)歷短暫沖高之后走低。截至全天收盤，半導體設備指數(shù)（884229）報85313.456點，跌幅0.74%。個股方面，北方華創(chuàng)（002371.SZ）報收303.92元/股，跌幅4.32%；拓荊科技（688072.SH）報收420.00元/股，跌幅1.40%；中微公司（688012.SH）報收153.20元/股，跌幅2.08%；耐科裝備(688419.SH)報收42.00元/股，跌幅1.36%。

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消息面上，6月30日荷蘭政府頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式DUV系統(tǒng)（即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節(jié)。

ASML30日回應第一財經(jīng)記者稱，正如公司在今年三月發(fā)布的消息中所述，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

商務部30日針對這一事件評價表示，荷方應從維護國際經(jīng)貿規(guī)則及中荷經(jīng)貿合作大局出發(fā)，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業(yè)正常合作和發(fā)展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業(yè)和雙方共同利益，維護全球半導體產業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定。

記者了解到，荷蘭政府出口限制條例主要針對的是ASML型號為TWINSCANNXT:2000i及后續(xù)推出的TWINSCANNXT:2050i產品，兩者均屬于DUV系列ArF光刻機產品。官方公布的性能參數(shù)顯示，上述兩款光刻機產品的分辨率為≤38nm，主要面向制程節(jié)點為7-28nm。

目前市場上的光刻機按照迭代的先后順序主要分為g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代，其中，g-line已逐漸被市場淘汰，第五代EUV光刻機的工藝節(jié)點目前是最優(yōu)的，能夠達到7nm以下。

在EUV光刻機市場方面，ASML目前處于絕對的壟斷地位。光大證券的研報顯示，ASML占有EUV光刻機100%的市場份額。據(jù)ASML財報數(shù)據(jù)，2022年EUV光刻機均價高達1.76億歐元每臺，遠高于其他類型的光刻機。不過早在2019年，荷蘭政府就限制了的EUV光刻機產品的出口。在7-28nm制程段，ASML目前也僅有TWINSCANNXT:1980Di這一較老的型號產品在出口管制條例之外。

日本政府本月也出臺了類似的半導體制造設備出口管制措施，相關條例將于7月23日起實施。該措施將加強對23種芯片制造設備的出口管制，范圍包括清洗、薄膜沉積、熱處理、蝕刻、測試等。

不過，在上周末召開的SEMICON China 2023展會期間，記者發(fā)現(xiàn)了一個小細節(jié)。盡管日本政府已經(jīng)頒布了相關政策，但無論是尼康（Nikon）半導體還是佳能（Canon）半導體，均在自己的展臺上展示了自己最先進的產品。

尼康半導體公司的內部人士對記者表示，目前政策還沒有落地，尼康作為日本的半導體企業(yè)，不得不遵守日本政府的規(guī)定，政策落地后，公司將會積極研究，在政策劃定的范圍之內和中國市場展開合作。

光大證券的數(shù)據(jù)顯示，近年來，ASML、 Nikon、 Canon 三大企業(yè)光刻機在全球的銷量穩(wěn)步提升， 從 2015 年的 281 臺增長至 2022 年的 551 臺， 復合年均增長率達 10.10%， 銷售收入由 2019 年的 945 億元增長至 2022 年的 1318 億元， 復合年均增長率達 11.73%， 其中 ASML 占據(jù)銷量的 8 成以上。

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