6月30 日荷蘭政府頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。根據新出口管制條例規(guī)定，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式DUV系統(tǒng)（即TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節(jié)。

ASML 30 日回應第一財經記者稱，正如公司在今年三月發(fā)布的消息中所述，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

【資料圖】

ASML的EUV光刻系統(tǒng)在此前已經受到限制。ASML其他光刻系統(tǒng)的發(fā)運未受荷蘭政府管控。ASML將繼續(xù)遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

荷蘭政府新頒布的出口管制條例將于2023年9月1日生效，在此日期前，ASML可開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將視具體情況批準或拒絕這些申請。

“基于今日的公告，我們認為這些管制條例不會對已發(fā)布的 2023 年財務展望以及于2022年 11 月投資者日宣布的長期展望產生重大影響。”ASML稱。

ASML表示，需要重點指出的是，荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式系統(tǒng)。 此外，ASML長期展望的基礎是全球的長期需求和技術趨勢。

以下為ASML公告全文：

關于荷蘭政府頒布最新出口管制條例的聲明

荷蘭菲爾德霍芬，2023 年 6月 30 日——荷蘭政府于今日頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。正如其在今年三月發(fā)布的消息中所述，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

根據新出口管制條例規(guī)定，ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式DUV系統(tǒng)（即TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節(jié)。

ASML的EUV光刻系統(tǒng)在此前已經受到限制。ASML其他光刻系統(tǒng)的發(fā)運未受荷蘭政府管控。

ASML將繼續(xù)遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

荷蘭政府新頒布的出口管制條例將于2023年9月1日生效，在此日期前，ASML可開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將視具體情況批準或拒絕這些申請。

基于今日的公告，我們認為這些管制條例不會對已發(fā)布的 2023 年財務展望以及于2022年 11 月投資者日宣布的長期展望產生重大影響。

需要重點指出的是，荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式系統(tǒng)。 此外，ASML長期展望的基礎是全球的長期需求和技術趨勢。

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